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产品说明:
OPTIMAL
SWA-I-05单波长高精度全自动光控系统是奥普镀膜技术(广州)有限公司专门针对国内镀膜机光控性能差,无法稳定进行更多层镀膜而重点开发的项目。毕业于美国麻省理工计算机专业,曾在美国从事软件工作五年的汪坤灿博士,
结合国内优秀镀膜工程师多年使用国产机的丰富经验,主持设计了系统的光控软件。

用途、特点:
OPTIMAL
SWA-I-05是一套采用先进计算机算法的高精度自动光控系统,充分考虑到国产镀膜机设备无自动光控系统还停留在以晶控操作为主,镀膜机重复性生产差,镀膜层数少、中心波长定位漂移大,还有国产电子枪、离子源产生的打火干扰、高压不稳定性等等缺点。针对性设计开发的软件操作控制系统,。该系统包括了嵌入式计算以及相应的数据采集、计算软件。光缆联接的光路保证了系统的柔和性以及高信噪比和长时间工作的稳定性,并能在恶劣的光学镀膜环境中采集到较低的信号。通过在线测量膜层的光谱反射比对光学膜系进行监控。经过长时间实验证明.该系统可完全实现光学镀膜的自动控制,体现出高精度(中心波形定位准)、高稳定(重复性和抗干扰性),连续镀膜层可达100多层。使镀膜成品率大幅提高,经济效益显著。系统功能达到或接近国际同行先进水平。
系统组成:
◎ 高精密稳压电源
◎ 光路及监控片换位系统
◎ 单色仪及光电转换器
◎ 光学膜厚控制仪(高精度锁相放大装置)
◎ 计算机(安装光控软件和相关硬件)
系统技术特点:
◎ 高精度,高稳定性,高重复性,高分辨率
◎ 自动化程度高,提高成品率和镀膜结果的同一性
◎ 特别适合于各种膜系的镀膜监控包括非规整膜的镀膜监控
◎ 安装和操作简单
(中英文两种文字选择)
◎ 减少对镀膜操作者的依赖
◎ 适用于已有晶控镀膜机改造及新镀膜机的配套
◎ 采用过极值法控制,光谱反射或透射率
技术参数
◎ 系统工作温度:10-35℃
◎ 光谱范围:330~1000nm(可在200~1500nm之间选择)
◎ 膜厚控制精度: 1%
◎ 膜厚控制仪(锁相放大器),准确监测0.1%的透射或反射率变化
◎ 稳定度:< 0.3%@100%,< 0.05%@4%以下
◎ 测量速度: 10次/每秒(可以提高到10万次/每秒)
◎ 测量精度:< ±0.5%
软件功能简介
◎ Linux下的中/英文界面控制软件,包含了膜系输入功能,可以方便地读入第三方薄膜自动设计软件完成的设计, 如TFCalc和Essential Macleod软件的设计文件。
◎ 适用于色散和吸收材料
◎ 包含膜料库
◎ 计算机辅助技术
◎ 膜系计算:实现100层以上光学薄膜计算
◎ 实时监测:膜系计算结束后,进入实时监测功能,包括:显示理论透反射率曲线和/或实测透反射率曲线、监控波长、膜系参数等。
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